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清水 雄一; 永井 士郎; 畑田 元義
J.Chem.Soc.,Faraday Trans.,I, 79, p.1973 - 1986, 1983/00
モレキュラーシーブ(MS)3A、4A、5A、および13X存在下でメタンを電子線照射し、生成物を分析した。MS4A存在下ではC炭化水素が、またMS5A存在下ではCおよびC炭化水素が選択的に生成する。これらの炭化水素の生成量および選択性は照射時間と共に減少した。メタン存在下で照射後のMSを水素流通下で再び照射すると、低級アルカンを主成分とする炭化水素を生成した。また、原料メタンへ水素を添加して照射すると、炭化水素の生成量の時間的減少が抑制された。これらの結果から、MSの反応活性の低下は、メタンから生成するcarbonaceous solidがMSの細孔内に沈積するためであり、それが水素添加によって抑制されるのはcarbonaceous solidの放射線による水素化分解が起るためであると結論した。
木谷 進; 江連 秀夫
日本原子力学会誌, 3(10), p.787 - 791, 1961/00
放射線防御の立場から原子炉およびその関連設備において事故あるいは再処理等により、空気中に放出される放射性ヨウ素の除去に相当な注意が払われるべきである。この論文はモレキュラーシーブ5Aによる吸着法によって、ヨウ素蒸気を除去するために行なわれた研究結果である。実験結果によれば、高温度ではヨウ素蒸気の吸着過程において水蒸気の影響をうけない利点かおるが、吸着量が少ない。それゆえモレキュラーシーブ5Aを放射性ヨウ素蒸気の強力な吸着剤として用いるためには適当な水蒸気吸着剤と併用して低温度で用いるべきである。最適条件では10~6mmHg程度の低濃度まで除去することが可能である。